概要
薄膜中の主成分元素から微量金属元素までの分析が可能です。特にICP質量分析法(ICP-MS)は測定溶液でppt(=10-12 g/g)の感度があり、薄膜中濃度としてppm(=10-6 g/g)の微量金属元素を測定することができます。
分析方法
基板上(ガラス、シリコンウェハーなど)に成膜された薄膜試料を酸で分解します。主成分元素はICP発光分析法(ICP-AES)で測定し、微量金属元素をファーネス原子吸光法(GF-AAS)やICP質量分析法(ICP-MS)で測定します。
- 薄膜全体の平均組成、微量成分の分析が可能です。
- 測定元素・含有量により、最適な測定法を選択します。
(ICP発光分析法(ICP-AES)、ファーネス原子吸光法(GF-AAS)、ICP質量分析法(ICP-MS)) - ※薄膜量(面積、厚さ)、基板材質(溶出成分)により分析できない場合があります。
また、酸素は測定できません。
・対象試料例
金属薄膜 : Cu、Al
酸化物薄膜 : In2O3、ZnO、SnO2
その他 : 透明導電膜(ITO、AZO)等
適用分野
フラットパネルディスプレイ、電池・半導体材料
キーワード
金属薄膜、酸化物薄膜、透明導電膜(ITO、AZO)