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技術資料
No.T1512 | 2016.02.05

GCIB-ESCAによる膜基板界面の分析

 

概要

Arガスクラスターイオン銃(GCIB)を搭載したESCAでは有機膜/基板界面の情報を得ることができます。ポリスチレン(PS)膜/シリコン(Si)基板の深さ方向分析を行い、膜基板界面の自然酸化膜を検出した例について紹介します。

分析事例

(1)デプスプロファイル測定結果
ポリスチレン(PS)膜/シリコン(Si)基板(図1)のGCIB-ESCAによる深さ方向分析結果を図2に示します。
膜(C)/基板(Si)界面に自然酸化膜由来の酸素が観測されました。
酸素が観測された深さのSi2pスペクトルにおいて、Si酸化物由来のピークが検出されました(図3)。

適用分野
その他有機製品、その他無機製品
キーワード
PS、ポリスチレン、Si、シリコン

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