脆弱試料の断面作製法

概要

クロスセクションポリッシャ（ＣＰ）は、イオンミリングにより断面試料を作製する装置です。イオンビームで試料を削ることによって清浄断面が得られ、多孔質試料や脆弱で剥離しやすい試料、複合材料などの断面試料作製が可能です。

分析事例の紹介

パウダーファンデーションの断面を研磨とＣＰでそれぞれ作製し、FE-SEM観察により比較しました。
下図のように、研磨では加工により崩れている構造が、CP加工断面では明瞭に観察されています。

図　FE-SEMによる断面観察